集束イオンビーム加工装置

1. 概要
本装置は、集束イオンビームのスパッタリング効果とデポジション効果を利用して、10ミクロン程度の微小試験片の切り出しや、試料の微細加工を行うために使用する。さらに試料の加工部位を走査型電子顕微鏡で適宜観察できるため、イオンビームによる試料の損傷を最小限に抑えることが可能。主に、透過型電子顕微鏡観察用試料の作製に用いられ、試料中の任意の部位の切り出しと電子顕微鏡用メッシュへの移動、薄片化処理など一つのチャンバー内ですべて行うことができる。

2. 特性
・製品名：FEI社製　Quanta 3D 200i
・ビーム：デュアルビーム（電子ビームとGaイオンビーム）
・最高加速電圧：30kV
・試料のピックアップ機能：あり
・照射時間：Ga液体金属イオン源、電子源の寿命の範囲内で使用可能
・試料の大きさ：1cm角、厚さ1mm程度までの試料が取り扱い可能
・照射パターン：制御プログラム上で定義した任意パターンで加工可能
（標準パターンは制御用コンピュータに登録済）

3. 設置場所
トレーサー棟　スペクトロメータ室No.1（放射線管理区域内）

4. 提出書類
出張・実験実施計画書、管理区域立入願

5. 装置担当者
木野村淳　kinomura.atsushi.3s*kyoto-u.ac.jp（＊→＠）
徐　　虬　xu.qiu.8z*kyoto-u.ac.jp（＊→＠）